Title
Nowe technologie maskowania statków powietrznych
Authors
[ 1 ] Katedra Sił Powietrznych i Obrony Powietrznej, Wydział Wojskowy, Akademia Sztuki Wojennej | [ P ] employee
Scientific discipline (Law 2.0)
Title variant
EN New Aircraft Masking Technologies
Year of publication
2022
Chapter type
chapter in monograph
Publication language
polish
Keywords
PL
- Maskowanie (wojsko)
- Materiałoznawstwo
- Nanomateriały
- Przemysły wysokiej techniki
- Samoloty wojskowe
- Statki powietrzne
EN
- Airplanes Military
- Camouflage (Military science)
- Flying Machines
- High technology
- Nanoparticles
Abstract
PL w opracowaniu przedstawiono problematykę maskowania statków powietrznych przez pryzmat nowoczesnych materiałów. Na wstępie odniesiono się do uwarunkowań konstrukcyjnych samolotów wojskowych, które determinują ich obniżoną wykrywalność. Następnie rozwinięto problematykę materiałów, które dopełniają właściwości "stealth" poprzez tworzenie kompozytowych struktur poszycia odpowiednio kształtujących odpowiedź statku powietrznego w domenie elektromagnetycznej. Zaprezentowano właściwości materiałów takich, jak: dostrajane fotonicznie metamateriały do maskowania w podczerwieni, nanomateriały na powłoki i struktury pochłaniające promieniowanie radarowe, metamateriały stosowane do kamuflażu wielospektralnego i akustycznego. Przedstawione technologie wykonania poszycia statków powietrznych oparte na nowoczesnych nanomateriałach i matamateriałach rzucają nowe światło na problematykę maskowania w całym spektrum elektromagnetycznym. Opisane struktury znajdują zastosowanie nie tylko w lotnictwie, ale z powodzeniem mogą być też wykorzystane w wojskach lądowych i marynarce.
Date of online publication
01.02.2023
Pages (from - to)
101 - 121
Comments
Bibliografia, netografia na stronach 119-120. Abstrakt angielski na stronach 120-121.
Copyrights to the institution
Akademia Sztuki Wojennej
Ministry points / chapter
20
This website works thanks to the software SINUS
created by Poznan Supercomputing and Networking Center
Log in to submit to SIS: